受美国技术封锁的影响，中国不会获得最先进的极端极端紫外线（EUV）ASML设备。然而，在短短4年内成立的深圳芯片制造商Xin Kailai首次展示了28纳米级的300毫米晶圆光刻技术，展示了全球高级半导体设备领域的大陆领域的独立研究和开发。根据外国媒体的报道，Xinkailai显示了包括原子层沉积（ALD），蒸汽化学（CVD）化学（PVD）蒸汽（PVD），预防，退火和其他主要过程的设备。尽管未显示光刻设备，但据了解，Xinkailai成功地开发了一个适用于300毫米晶片的28纳米沉浸式光刻系统，其技术与国际主流设备相媲美。 28纳米光刻m由Xinkailai和华为开发的Achine主要是为了取代包括ASML在内的半导体设备制造商，提高其自主权，并使用先进的芯片设备打破了美国政府控制控制步骤。半导体行业分析师Wang Lei表示，28纳米是成人过程和高级过程之间的水，也很难发现中国半导体制造商应该破裂。 Xinkailai的突破表明，中国的国内设备在基本领域取得了重大发展。 Xinkailai于2021年的过去建立，由深圳市政府资助，并致力于开发与半导体制造有关的设备。它在北京，上海，西安和其他地区建立了研发中心，并一直指出该行业的领先技术才能，招募了来自ASML，Applied Materials，Colin R＆D（Colin R＆D（LAM Research）和Tokyo El Resears）的主要全球工厂的剩余工程师Ectron。尽管四年前，Xinkailai在市场上展示了强大的目标，其客户名单包括中国半导体行业的顶级晶圆厂，例如Smic和Huahong Group。不仅如此，Xinkailai中的某些蚀刻设备也用于半导体生产线中。在未来的三年中，Xinkailai计划在10个以上的城市中扩展R＆D中心，还将在欧洲和东南亚建立中心服务，以提供专业的客户支持并扩大其全球影响力。资料来源：中国时报新闻网络